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鍍錫銅排的銅排鍍錫工藝

發布時間:2018年03月07日 【返回上一頁】 瀏覽量:

工藝成熟.操作周期短,普遍采用。

弱點:時間長了表面發暗,人手做不到。不環保!

工藝流程

表面拋光除油等前處理→純水洗→鍍高Pb-Sn合金個自來水洗→純水洗→鍍錫→自來水噴洗→中和(Na2HPO4+Na3PO4)→自來水噴洗→浸硬脂酸→自來水噴洗→熱純水浸洗→烘干。

銅排表面處理工藝拋光:無論是人工還是機械都慢,而且累,粉塵很嚴重,清理表面氧化皮,微小毛刺。(用石英砂,玻璃丸)。

鍍液各成分作用及工藝流程

光亮硫酸鹽鍍錫液主要成分為硫酸亞錫和硫酸,生產中其含量隨所采用的添加劑不同而不同。

硫酸亞錫為主鹽,含量十般控制在40~100g/L。但生產實驗結果表明,高濃度硫酸亞錫雖然可以提高陰極電流密度,加快沉積速度,但使鍍液分散能力明顯下降,且使鍍層結晶粗、光亮區域變小,甚至大大縮短了鍍液的處理周期。


2. SnSO4含量控制在20~60g/L為宜,若取下限,可以通過加快鍍液循環速度及電極(陰極或陽極)移動速度等辦法進行“補償”,仍可鍍出優良產品,但不宜過低。

硫酸具有降低亞錫離子的活性、防止其水解、提高鍍液導電性能及陽極電流效率等作用。當硫酸量不足時,亞錫離子易氧化成四價錫。

從動力學的觀點分析,當有足夠SO4時,可以減慢二價錫的水解,穩定鍍液,實際生產中H2SO4含量一般在80~150mL/L。的H2


添加劑

鍍錫光亮劑一般是由主光劑、輔助光亮劑、載體光亮劑復配制成。

主光劑

酸性光亮鍍錫光亮劑的種類繁多,歸納起來可分為兩大類:第1類主要是芳醛、芳酮、酯類及不飽和有機酸  烯的衍生物,第2類主要是西佛堿類(基本結構單元為-CH=N—CH=CH-或-CH=CH-CH=N-),由乙醛與鄰甲丙胺縮合而成,是酸性光亮鍍錫有效的增光劑,能單獨使用,也可與第l類光亮劑配合使用,當與第1類光亮劑配合使用時,能顯著拓寬光亮區,有效消除鍍層白霧。

有機光亮劑的光亮作用主要表現為在陰極上的吸附,陰極上的吸附過強或過弱均無法獲得理想的光亮鍍層。因為吸附太強,脫附電位太負,析氫嚴重,易形成針孔;吸附過弱時,脫附電位相對較正,鍍層結晶粗糙。只有適當的吸附才能達到好的光亮效果。

所以,在配制組合光亮劑時,應將吸附過強、適當和過弱的添加劑有機配合使用,以達到吸附適度、吸附電位范圍較寬的目的,且各項組合量由實驗確定。目前可用作主光劑的有:芐叉丙酮、枯茗醛、二苯甲酮、O—氯苯甲醛等,其中芐叉丙酮常用。

輔助光亮劑

因為主光劑均只能在某一電流密度范圍內發揮光亮作用,所以單獨使用是不能獲得理想鍍層的,但是如果和輔助光亮劑配合使用就能起到協同效應,從而使鍍層結晶細化、光亮電流密度區域進一步擴大。屬于這類添加劑的是脂肪醛和一些有機酸類,常用的有甲醛、丙烯酸、肉桂酸等。

載體光亮劑

大多數有機光亮劑在水中的溶解度非常小,因而在陰極上被吸附的量也少,所以不宜單獨加入鍍液;有些有機光亮劑在電鍍過程中因發生氧化、聚合等反應,容易從鍍液中析出。因此,如果要使光亮劑的效果得到充分發揮,就必須加入一些表面活性劑,利用其增溶作用來提高光亮劑在鍍液中的含量,這些表面活性劑稱為載體光亮劑,亦稱為分散劑。同時它還具有潤濕和細化結晶等功能。

最早使用的載體光亮劑是一些陰離子表面活性劑,但是它們在陰極上的吸附較弱。后來又開發出非離子型表面活性劑,如聚氧乙烯、聚氧丙烯醚等,它們既具有潤濕分散作用,又具有抑制H2析出及Sn2+放電而使鍍層晶粒細化的作用。在上述分散劑中,OP乳化劑使用廣泛。

穩定劑

以硫酸亞錫為主鹽的酸性鍍錫液連續工作半個月就會發生混濁,難以鍍出合格產品,需加一定穩定劑。

常用的酸性鍍錫穩定劑大多是Sn2+的絡合劑,如草酸、檸檬酸、酒石酸等,且復配比單獨使用效果好。另外,某種催化劑也有穩定鍍液的作用,生產表明,在連續生產的情況下,加入這種催化劑的鍍液能保持半年以上的時間清亮不濁。

絮凝劑

至今還沒有一種穩定劑:能長期保持鍍液穩定、清澈透明,因此Sn4+不可避免產生。隨著Sn4+的積累,鍍液逐漸變渾,沉渣增加,鍍層光亮區變小、均勻性變差,甚至出現發暗、發花等現象,此時必須對鍍液進行絮凝劑處理。

絮凝劑分無機和有機兩類,無機絮凝劑有各種鹽類、活性硅土等,有機絮凝劑可分為陰離子、陽離子、非離子3種。陰離子型絮凝劑主要有環氧胺系共聚物、聚乙烯亞胺、聚乙烯胺類衍生物等,陰離子型絮凝劑主要有聚丙烯酰胺水解物、聚丙烯酰胺、磺酸鈉類等,非離子型絮凝劑主要有聚丙烯酰胺、脲—醛聚合物等。

聚丙烯酰胺和無機絮凝劑配合使用效果非常好,對鍍液的性能無任何影響,但沉降速度太慢,長達48 h以上。環氧胺系共聚物的效果較好,但過量使用對鍍液有一些影響,嚴重時影響鍍層光亮度,但沉降速度特別快,一般在2h之內可完全沉淀下來(使用時切忌過量)。

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